A China acelera na corrida dos chips EUV e desafia o domínio tecnológico da Europa.

Última atualização: 23/12/2025

  • A China construiu um protótipo funcional de uma máquina de litografia EUV em Shenzhen, através da engenharia reversa de um equipamento da ASML.
  • A Huawei está coordenando um projeto do tipo "Projeto Manhattan" com milhares de engenheiros e forte apoio estatal para alcançar a autossuficiência em semicondutores.
  • As projeções mais realistas apontam para a produção de chips chineses avançados com EUV entre 2028 e 2030, ainda atrás da Europa e dos EUA.
  • O avanço ameaça o monopólio europeu da ASML e reconfigura o equilíbrio geopolítico na indústria de IA e chips de alto desempenho.
Scanner EUV chinês

A China deu um passo que poucos na Europa e nos Estados Unidos queriam ver tão cedo: Já possui seu próprio sistema operacional, pelo menos em forma de protótipo. scanner de litografia ultravioleta extremo (EUV)Ela ainda não fabrica chips comerciais, mas Sim, gera a tão desejada luz EUV. que até então era dominada apenas pela empresa holandesa ASML. O que durante anos foi considerado uma barreira quase intransponível para a indústria chinesa de semicondutores está começando a ruir.

A história, revelada por vários relatos e especialmente por um... Investigação aprofundada da ReutersO texto descreve um projeto gigantesco e altamente secreto, orquestrado a partir dos mais altos escalões do poder em Pequim. Em um complexo de máxima segurança em Shenzhen, milhares de engenheiros — muitos deles veteranos da ASML — Eles trabalharam durante anos para replicar, pedaço por pedaço, a tecnologia que sustenta o monopólio europeu na fabricação de chips avançados.

Um "Projeto Manhattan" para chips de IA

chips funcionais com EUV chinês

Na indústria, ninguém mais esconde as comparações: O esforço chinês é abertamente descrito como um "Projeto Manhattan" tecnológico.O objetivo não é uma bomba, mas algo quase tão estratégico em meio à ascensão da inteligência artificial: controlar as máquinas que permitem a fabricação dos chips mais avançados do mundo, essenciais para centros de dados, telefones celulares, supercomputadores e sistemas de defesa.

Segundo informações vazadas, o protótipo chinês de EUV foi concluído no início de 2025 e Ocupa praticamente um andar inteiro de uma fábrica em Shenzhen.É muito mais volumoso e rudimentar do que o equipamento da ASML, mas compensa a falta de sofisticação com pura força bruta. A máquina dispara lasers em minúsculas gotículas de estanho fundido dezenas de milhares de vezes por segundo para gerar o plasma que produz luz ultravioleta extrema.

Até hoje, O sistema conseguiu gerar e controlar a luz EUV.O gargalo mais crítico em toda a arquitetura, embora ainda careça dos sistemas ópticos de precisão necessários para imprimir chips funcionais. Essa é a principal diferença em relação aos scanners europeus: a ASML utiliza a óptica de ultra-alta precisão da empresa alemã Carl Zeiss AG, uma área em que a China ainda está atrasada.

No entanto, o simples fato de possuir um scanner EUV operacional - mesmo que esteja em fase de testes - Isso acelera abruptamente as previsões de independência tecnológica da China.Os analistas agora estabelecem um horizonte plausível para chips avançados entre 2028 e 2030, um ritmo duas a três vezes mais rápido do que o que a própria ASML levou para amadurecer sua tecnologia.

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Huawei, o vértice de uma rede industrial secreta

Huawei Mate XTs

No cerne do projeto está um nome bem conhecido em Bruxelas e Washington: HuaweiLonge de se limitarem a projetar telefones celulares ou chips para seus próprios produtos, A empresa atua como coordenadora nacional de uma extensa rede de empresas, laboratórios e institutos públicos. que abrangem toda a cadeia de valor, desde o projeto do processador até as máquinas de fabricação.

Fontes próximas à operação descrevem uma atmosfera de "tempo de guerra": Milhares de engenheiros trabalhando a portas fechadas, em muitos casos dormindo nas próprias instalações.Com comunicações restritas e protocolos de segurança mais semelhantes a um programa militar do que a um projeto industrial. Muitos desses perfis vêm diretamente da ASML; são engenheiros chineses que trabalharam na Holanda e aceitaram pacotes salariais generosos, bônus de contratação e auxílio-moradia para retornar ao seu país.

Para proteger a confidencialidade, vários técnicos Eles operam sob identidades e credenciais falsas. Dentro do complexo de Shenzhen, o grau de compartimentalização é extremo: apenas um grupo muito pequeno tem uma visão completa do sistema, enquanto equipes de recém-formados se concentram na engenharia reversa de componentes específicos de máquinas EUV e DUV, sob supervisão constante e com sistemas de recompensa vinculados ao progresso.

O papel da Huawei não se limita ao scanner. A empresa A empresa já projeta seus próprios processadores Kirin e Ascend, promove o sistema operacional HarmonyOS e desenvolve soluções de memória e conectividade.Se ele conseguir fechar o ciclo também no que diz respeito às máquinas de fabricação, poderá controlar a chave de toda a indústria chinesa de semicondutores. desde os 7 nm, que já está sendo maximizado com a tecnologia DUV, até os futuros nós de 3 e 2 nm..

Engenharia reversa, mercado cinza e peças europeias e japonesas.

litografia de wafer

A parte menos visível do projeto, e talvez a mais delicada para a Europa, é a logística que o sustenta. Dada a impossibilidade de adquirir novos equipamentos EUV devido às restrições à exportação, A China tem recorrido sistematicamente ao mercado secundário.Por meio de intermediários, o país vem adquirindo componentes e módulos para gerações mais antigas de máquinas da ASML, bem como equipamentos da Nikon e da Canon.

Essas peças, teoricamente destinadas à produção com nós mais antigos, serviram como base para a engenharia reversaEm paralelo, a China desmontou parte da frota de máquinas DUV já instalada em seu território para reutilizar componentes e obter uma melhor compreensão do funcionamento de cada subsistema. O resultado é um protótipo híbrido de EUV, mais rudimentar que a versão europeia, mas suficientemente avançado para validar os principais princípios físicos.

No campo da óptica, o Instituto de Óptica, Mecânica Fina e Física de Changchun —afiliada à Academia Chinesa de Ciências— assumiu um papel central. Seus pesquisadores trabalharam para integrar a fonte de luz EUV em seu próprio sistema óptico, ainda longe de igualar o desempenho da óptica alemã, mas já operacional para testes internos. Os especialistas concordam que o aprimoramento desse aspecto levará anos, mas o caminho técnico já foi trilhado.

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Tudo isso tem um custo colossal. Uma máquina EUV comercial da ASML custa atualmente entre US$ 200 e 250 milhões, e as futuras versões de alta NA estão se aproximando ou ultrapassando os US$ 400 milhões. A China precisa replicar algo semelhante quase do zero, sem o apoio oficial do fornecedor original.Isso depende de peças de reposição usadas e desenvolvimento interno. Mesmo assim, o Estado considera o custo administrável como parte de uma estratégia de soberania industrial de longo prazo.

ASML, Europa e o início do fim de um monopólio

Litografia ASML

Para a Europa, esta mudança é especialmente desconfortável. A ASML é um dos poucos ativos tecnológicos verdadeiramente estratégicos com peso global. A UE mantém essa vantagem: todas as principais fábricas da TSMC, Intel e Samsung dependem de suas máquinas EUV para produzir os chips que impulsionam a revolução da IA. Há anos, esse monopólio coloca a Holanda no centro da diplomacia tecnológica entre Washington, Pequim e Bruxelas.

Sob pressão dos Estados Unidos, dos governos holandês e da UE Eles levaram as restrições à exportação ainda mais longe.A ASML nunca entregou um sistema EUV a clientes chineses, e mesmo os equipamentos DUV mais avançados passaram a ser rigorosamente controlados. Em teoria, essa era uma forma de manter a China pelo menos uma geração atrás na fabricação de chips de ponta.

O protótipo de Shenzhen desafia essa premissa. Embora ainda esteja a anos-luz da confiabilidade e do desempenho de uma máquina comercial da ASML, Isso demonstra que o monopólio europeu já não é tecnicamente absoluto.Na prática, a Europa continua a dominar o mercado e manterá essa vantagem durante grande parte da próxima década, mas a ideia de que "a China nunca será capaz de fazer isso" tornou-se oficialmente obsoleta.

Analistas do setor de semicondutores apontam para um efeito menos visível, mas relevante: o impacto psicológico e financeiroO simples fato de a China possuir um roteiro crível para sua própria tecnologia EUV permite que fundições locais, fornecedores de equipamentos e projetistas de chips fabless planejem seu crescimento com um horizonte de nós bem definido, algo impensável há apenas alguns anos. Isso já se reflete nas avaliações de ações e no apetite dos investidores dentro do ecossistema chinês.

Para o setor europeu, o risco não é um colapso imediato, mas uma erosão lenta: Margens mais apertadas, cadeias de suprimentos mais fragmentadas e assimetria tecnológica menos acentuada.Mesmo que a ASML mantenha sua liderança com seus sistemas de alta NA e futuros nós de 1nm, a existência de uma alternativa chinesa reduzirá o poder de negociação e a aura de exclusividade que a empresa desfrutou até agora.

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Prazos, limites atuais e horizonte para 2030

Máquina EUV e chips avançados

No entanto, é aconselhável não superestimar a importância desse marco. O scanner chinês ainda é um protótipo em fase inicial.Comparável aos primeiros sistemas que a ASML testou internamente no início dos anos 2000. Não produz chips comerciais, ainda depende de componentes estrangeiros, seu tamanho é muito maior do que o dos equipamentos europeus e sua eficiência está bem abaixo dos padrões da indústria.

Os objetivos oficiais falam de Produzir chips funcionais com EUV por volta de 2028.No entanto, a maioria das fontes internas e analistas internacionais apontam para um cenário mais razoável por volta de 2030. Mesmo nesse ponto, a China provavelmente ainda estaria fabricando. nós na faixa de 2 nmEntretanto, o ecossistema ocidental já está implementando a produção em 1 nm ou outros processos equivalentes, de acordo com o roteiro do Imec e de outros centros de pesquisa.

O importante não é tanto estar um nó atrás - algo aceitável em termos de competitividade - mas sim não depender de licenças ou exportações para acessar tecnologias essenciaisPara Pequim, possuir sua própria pilha de EUV, mesmo que menos eficiente, significa poder planejar investimentos em centros de dados, armamentos, eletrônicos de consumo ou veículos elétricos sem temer interrupções no fornecimento devido a decisões políticas externas.

Entretanto, a China continua a levar suas máquinas DUV a limites que muitos na Europa consideravam impossíveis. A SMIC já fabricou chips como o Kirin 9030 em um processo equivalente a 5 nm usando apenas litografia DUV.através da sobreposição de múltiplas exposições no mesmo wafer. É um método caro e com baixo rendimento, mas demonstra até que ponto o país está disposto a investir recursos para não ficar para trás na era da IA.

Olhando para a próxima década, o panorama que se desenha é claro: A corrida não se trata mais de desacelerar a China, mas de competir a uma velocidade maior.Os Estados Unidos e a Europa podem continuar a impor controles, mas a margem para manter uma diferença significativa está diminuindo. O resultado será um mercado de semicondutores avançados mais fragmentado, com dois grandes blocos tecnológicos cada vez mais desconectados um do outro.

Nesse novo cenário, o protótipo EUV de Shenzhen ainda não representa uma ameaça industrial direta para a ASML ou para as fábricas europeias, mas é Um sério alerta de que o monopólio ocidental sobre o componente-chave da fabricação de chips começou a ruir.A década de 2030 determinará se a Europa e os Estados Unidos aproveitarão sua vantagem para inovar mais rapidamente ou simplesmente administrarão, pouco a pouco, a perda de uma supremacia que até muito recentemente era dada como certa.

fotolitografia ultravioleta extrema (EUV)
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